国家/地区 日本（10） 台湾（9） 世界知识产权组织（9） 韩国（7） 中国（6） 欧洲专利局（EPO）（6） 美国（6） 西班牙（4）
IPC部 C（13） B（7） H（2）
IPC大类 C01（12） C22（9） C23（8）
B21（6） B82（5） C25（5）
B01（3） B32（3） C30（3）
H01（2）
IPC小类 C01B（12） C22C（9） C22F（7）
B21B（6） B82Y（5） C23C（4）
C23F（4） C25D（4） B01J（3）
B32B（3） C30B（3）
IPC C01B031/02（11） C01B031/04（10） C22C009/00（9）
C22C009/02（9） C22F001/08（7） B21B001/40（6）
C22F001/00（6） B82Y030/00（5） B21B003/00（4）
B82Y040/00（4） C22C009/04（4） C22C009/06（4）
C22C009/10（4） B01J023/72（3） C01B032/186（3）
发明人 CHIBA Y（8） CHIBA G（5） CHIBA YOSHIHIRO（4）
YOSHIHIRO C（4） KOHIKI M（3） SAKAGUCHI K（3）
KOHIKI MICHIYA（2） ONO T（2） SAKAGUCHI KAZUHIKO（2）
TATSUYA Y（2） YAMAJI T（2）
公开年 2014（6） 2012（3） 2013（3）
申请年 2012（6）  2013（5） 
专利权人 NIPPON MINING METALS CO LTD（13）

Copper thermal radiation material used during manufacturing of e.g. electronic component, has graphene layer that is provided on copper foil or copper alloy foil with thickness of specific range.

ONO T, KAMMURI K

Copper foil for graphene production and graphene production method used for producing high-quality large-area graphene at low cost.

KOHIKI M, SAKAGUCHI K

Copper foil used in manufacture of graphene, has preset surface roughness, and contains copper plating layer and/or copper sputter layer.

KOHIKI MICHIYA, SAKAGUCHI KAZUHIKO, KOHIKI M, SAKAGUCHI K, MICHISHITA N

Copper foil used in manufacture of graphene, has surface roughness less than preset value, and contains specific plane in surface in ratio more than preset value.

KOHIKI MICHIYA, SAKAGUCHI KAZUHIKO

Rolled copper foil used for multilayer graphene manufacture comprises silicon or titanium in surface by X-ray photoelectron spectroscopy.

CHIBA Y

Rolled copper foil for manufacturing graphene, has specified glossiness in both direction parallel to rolling direction and direction perpendicular to rolling direction, and average crystal grain size.

CHIBA YOSHIHIRO, CHIBA Y

Rolled copper foil used for manufacture of graphene for e.g. mercury-free fluorescent lamp, has specified ratio of maximum value for detection strengths occurring under specified conditions based on specific direct pole figure.

CHIBA YOSHIHIRO, CHIBA Y

Copper foil for manufacture of graphene for e.g. transparent electrode, conductive thin film of display element, mercury-free fluorescent lamp and carrier of drug delivery system, includes specified amount of preset plane on surface.

KOBIKI T, SAKAGUCHI K, KOHIKI M

Copper foil used for manufacturing graphene, comprises copper with specific purity.

CHIBA Y, ONO T, CHIBA G

Copper foil for manufacturing graphene, has specified arithmetic mean roughness in rolling parallel direction and rolling perpendicular direction.

CHIBA YOSHIHIRO, CHIBA Y, CHIBA G, YOSHIHIRO C