国家/地区 韩国(29) 美国(10) 世界知识产权组织(9) 中国(4) 欧洲专利局(EPO)(2)
IPC部 C(20) H(16) B(14)
G(6) D(4) A(2)
IPC大类 H01(14) C01(13) B01(9)
C23(7) C12(5) G01(5)
D01(4) B82(3) C09(3)
H02(3) B65(2) C08(2)
IPC小类 C01B(13) H01L(8) C23C(7)
B01J(5) B01L(4) D01D(4)
D01F(4) H01G(4) C09D(3)
C12Q(3) G01N(3) H01M(3)
B65H(2) B82Y(2) C08L(2)
IPC C01B031/04(9) C01B032/186(5) C23C016/26(5)
B01L007/00(4) D01D005/06(4) D01F009/12(4)
B01L003/00(3) C01B032/182(3) C12Q001/686(3)
H01G011/36(3) H01G011/86(3) H01L029/16(3)
H01L051/00(3) B01J023/42(2) B65H037/04(2)
发明人 CHO K(32)
公开年 2016(6) 2017(4) 2022(4) 2018(3) 2019(3) 2020(3) 2021(3) 2023(3)
申请年 2015(6)  2021(5)  2014(4)  2018(4)  2016(3)  2019(3)  2020(3)  2022(2) 
专利权人 CENT ADVANCE.(10) PURITECH CO .(7) POSTECH ACAD.(5) ADVANCED CON.(4)
AICT(4) UNIV SUNGKYU.(4) BASIC SCI IN.(2) UNIV INHA RE.(2)
UNIV KOREA R.(2) UNIV SEOUL N.(2)