国家/地区 美国(9) 韩国(6) 台湾(4) 世界知识产权组织(4) 中国(3) 日本(3)
IPC部 B(13)
IPC大类 B01(13)
IPC小类 B01J(13)
IPC B01J023/72(13)
发明人 CHA S W(2) HONG B H(2) HONG S Y(2)
JUNG M H(2) KIM K E(2) KIM K H(2)
MAENG K S(2) PARK C W(2) PARK S B(2)
公开年 2013(3) 2021(3)
申请年 2012(3)  2021(3)  2011(2)  2016(2) 
专利权人 HANWHA TECHW.(2) JX NIPPON MI.(2) NIPPON MININ.(2) SRC CORP(2)
UNIV SUNGKYU.(2) UNIV SUNGKYU.(2)

KIM K H, MAENG K S, PARK C W, CHA S W, HONG S Y, HONG B H, JUNG M H, KIM K E, PARK S B, BEOM P S, EUN K G, HUI H B, HUI J M, HYEONG K G, SEOP M G, U P C, WON C S, YEON H S