国家/地区 | 美国(18) 中国(15) 世界知识产权组织(15) 韩国(14) 日本(13) 欧洲专利局(EPO)(10) 加拿大(3) 台湾(3) 澳大利亚(2) 巴西(2) 西班牙(2) 印度(2) 新加坡(2) |
IPC部 |
B(20)![]() |
IPC大类 |
B32(20)![]() |
IPC小类 |
B32B(20)![]() |
IPC |
C01B031/02(20)![]() |
发明人 | KIMURA N(2) SHIMIZU K(2) |
公开年 | 2011(6) 2013(5) 2009(3) 2012(3) |
申请年 | 2012(5) 2011(4) 2010(3) 2008(2) 2009(2) 2013(2) |
专利权人 |
KIMURA N(2)
SHIMIZU K(2)
SONY CORP(2)
UNIV SUNGKYU.(2)
|
UEKUSA K, SHIMADA N, YAZAWA K, YAMADA T, HASEGAWA M, SHIMADA NAYUTA, YAZAWA KENJI, YAMADA TAKATOSHI, HASEGAWA MASATAKA, UEKUSA KAZUTERU
CHOW J R, KETOLA K S, LA KOMSKI D M, TOWNSEND C W, ELIAS W E, MARBLE S J, LAKOMSKI D M
KIM W C, KIM J I, HUR K H, KANG H H, KIM W, KIM J, HUR K, CHEON K U, IL K J, HEON H G, WOON C K, JAE I K
KIMURA N, SHIMIZU K, FUKUDA T
KIM T H, KIM Y K, KEE S B, KIM S K, IM C G, HO K T, GWON K Y, BEOM G S, GUK K S, GYU I C
CHOI M C, JUNG J H, KWON O K, CHOI J O
NAITO K, YOSHINAGA N, NAKANO Y, AKASAKA Y, MATAKE S, AKITA M, MATEKE S
MORI F, TERAZONO H, TERAZONO S
SHIMIZU K, KOBAYASHI T, KIMURA N, IZUHA K, DEWA K
OEZYILMAZ B, NI G, ZHENG Y, OZYILMAZ B, GUANG S N, NI G X, OEZYILMAZ B