国家/地区 |
中国(15)![]() |
IPC部 |
C(15)
B(4)
H(2)
|
IPC大类 |
C01(15)![]() |
IPC小类 |
C01B(15)![]() |
IPC |
C23C016/26(8)
C01B032/186(7)
C01B032/184(6)
C01B032/194(5) C01B032/182(3) C23C018/16(3) B82Y030/00(2) B82Y040/00(2) C23C016/01(2) C23C016/02(2) |
发明人 | ZHANG H(2) ZHANG J(2) |
公开年 |
2017(15)![]() |
申请年 |
2017(15)![]() |
专利权人 |
ZHANG A, YANG M, CHEN J, ZHAO Y, WEI W, ZHANG X
WANG H, CHEN L, HE L, XIE H, WANG X, XIE X
Device used e.g. for etching continuous substrate and graphene comprises feeding and etching device.
ZHANG H, LI T, TAN H
ZHANG J, LUO J, XIONG L, GUO W
CHEN P, LI Z, SHI Y, YAN C, YANG L
HARUTYUNYAN A, HARUTYUJAN A
LOEBLEIN M, TSANG S H, TEO H T E, TSANG S, ZHANG H
SHIVAREDDY S, BOHM S, PATOLE S, THAKUR D B, VAN DER WEIJDE D H, BOEHM S