国家/地区 中国（84） 美国（27） 韩国（14） 世界知识产权组织（10） 日本（3） 印度（2） 台湾（2）
IPC部 C（117）
IPC大类 C23（117） H01（38） C01（24）
C25（20） B22（19） C22（18）
C09（13） B82（10） B23（6）
C08（6） B32（5） B01（4）
B33（4） C21（4） F16（4）
IPC小类 C23C（117）
IPC C23C016/26（37） C23C016/02（17） C01B032/186（13）
C23C014/35（12） H01L021/02（12） C23C016/455（11）
C23C028/00（10） C23C014/06（9） B82Y040/00（8）
C23C016/44（8） C23C016/50（8） C23C026/00（8）
B82Y030/00（7） C23C016/40（7） C23C016/56（7）
发明人 WANG X（6） LI X（5） WANG Y（5）
ZHANG L（5） ZHANG Y（5） LEE C S（4）
LI J（4） LI Z（4） YANG Y（4）
ZHANG G（4） ZHANG Q（4） BYUN K（3）
BYUN K E（3） CHEN C（3） HU Y（3）
公开年 2023（117）
申请年 2022（117）
专利权人 SAMSUNG ELEC.（7） 2D GENERATIO.（2） APPLIED MATE.（2） LAM RES CORP（2）
LYTEN INC（2） SHANDONG INS.（2） SHENZHEN SKI.（2） SUZHOU SHENG.（2）
TOKYO ELECTR.（2） UNIV BARILAN（2） UNIV GUANGDO.（2） UNIV IMAM AB.（2）
UNIV KUNMING.（2） UNIV NANTONG（2） UNIV ZHEJIAN.（2） YANGZHOU NAL.（2）

Forming graphene involves pretreating surface for processing using one or more pretreating flowrates of substrate gas scavenging gas composition or annealing gas composition, in presence of one or more pretreating temperatures, to produce contaminant-depleted surface.

PHILPOTT R, BARAKET M, SHERRILL V

Plasma deposition of material onto two dimensional layer of first substrate, involves depositing protective layer directly onto dimensional layer by pulsed plasma deposition process, and depositing second layer onto protective layer by second plasma deposition process.

RIAZIMEHR S, KNOOPS H, SUNDARAM R

Method for manufacturing surface-patterned current collector, comprises etching and patterning current collector and coating carbon material on patterned current collector, where patterning by etching comprises electrochemical etching.

JIN A, SUNG G W

Branched nano-wire array composite photoelectric film used for photo cathode protection, has composite heterojunction system cadmium sulfide/reduced graphene oxide quantum dots/titanium dioxide branched nanowire array composite photoelectric film.

HOU B, LU G, SUN M, JIANG X

Titanium carbide-based metal ceramic used for preparing wear-resistant product, comprises graphene, alloy steel and titanium carbide.

WANG X, XIAO Z, CAO Z, LI J

Coated aluminum-silicon plated steel plate useful in thermoformed component, comprises steel substrate and aluminum-silicon coating coated on the surface of the steel substrate, where the surface of the aluminum-silicon coating is covered with coating.

MA X, JIN X, LIU H, TAN N

Preparing copper-clad aluminum composite welding strip used in interconnection strip, bus belt comprises surface cleaning of copper strip and aluminum rod, wrapping, multiple drawing of composite copper rod, and ultrasonic testing, drawing composite copper wire, heat annealing and tin plating.

DONG W, ZHANG W, GAO L, CHEN Q

Anode active material comprises carbon material, and silicon structure attached to carbon material, where silicon structure includes silicon nanoparticle, metal thin film formed on surface of silicon nanoparticle, and graphene coated on surface of metal thin film.

KIM Y H, SON M W, KIM Y, SUN M

Hard mask film used in etching process for manufacturing semiconductor device, comprises first graphene layer, first amorphous carbon layer on first graphene layer, second graphene layer on first amorphous carbon layer, and second amorphous carbon layer on second graphene layer.

KIM Y, OH S, AN S, AHN S J, OH S R, KIM Y U, AN X

Silver-graphene composite plating layer, has layer main body provided with first nano-silver layer, silver-graphene layer and second nano-silver layer that are sequentially arranged on base body.

LI H, ZHAO K, ZHANG Q, CHEN B, GUO W, ZHU Z, ZHANG C, DING Y, PANG Z