国家/地区 | 中国(11) 美国(5) 日本(3) 世界知识产权组织(3) 韩国(2) |
IPC部 |
C(12)![]() |
IPC大类 |
C01(12)![]() |
IPC小类 |
C01B(12)![]() |
IPC |
C01B032/184(12)![]() |
发明人 | ZHANG J(2) |
公开年 |
2017(12)![]() |
申请年 | 2017(7) 2016(4) |
专利权人 |
Device used e.g. for etching continuous substrate and graphene comprises feeding and etching device.
ZHANG H, LI T, TAN H
ZHANG J, LUO J, XIONG L, GUO W
HARUTYUNYAN A, HARUTYUJAN A
GUI C, HUANG S, GUI L, LIU C
CAO J, MENG X, HUANG M, SUN L, FUGETSU B
XU H, XIANG J, ZHANG M, LU Y, GU Z